中文名 |
三氟化氯 |
英文名 |
Chlorine trifluoride |
别名 |
三氟化氯 |
英文别名 |
CHLORINE TRIFLUORIDE Trifluoride chlorine Chlorine trifluoride |
CAS |
7990-91-2 |
化学式 |
ClF3 |
分子量 | 92.45 |
物化性质 |
三氟化氯(ClF3)是一种很强氧化剂和氟化剂。它能大多数有机和无机材料甚至塑料反应,可以使许多材料不接触火源就燃烧。这些反应通常很剧烈,在某些情况下甚至会爆炸。 它与一些金属反应生成氯化物和氟化物,与磷反应生成三氯化磷和五氟化磷,而与硫反应生成二氯化硫和四氟化硫。ClF3也与水剧烈反应,水解产生有毒物质,例如氟化氢。H2S在室温下与ClF3混合就会爆炸。 能够超越氧气的氧化能力导致对含氧材料的腐蚀性,这些材料通常被认为不可燃的。 在一工业意外中,900 kg的ClF3泄漏把自身烧通30厘米的混凝土和90厘米的砾石。任何和三氟化氯接触的设备,必须仔细挑选和清洁,因为任何污染可以点燃接触物。 三氟化氯平时是装在金属容器里面的,这几乎算是唯一能暂时控制它的方法了,只要预先经过处理形成了金属氟化物保护层,它在一些常见金属制成的容器里面还可以保持安稳。 因为三氟化氯活泼的化学性质,任何接触它的设备都必须经过仔细的清洁以及保证气密性。不幸中的万幸,它会立刻和容器内壁反应生成不再参与反应的氟化物,从而我们可以方便地贮存。 |
产品用途 | 用途 三氟化氯(CIF3)是一种用于清洗化学气相沉积腔室及其管道清洗的重要的电子特气。与其他含氟气体(如NF3、C2F6和CF4)不同,三氟化氯在室温下就能够与半导体材料进行反应,因此它可以清洗冷壁CVD腔室。用三氟化氯进行清洗是一种化学刻蚀过程,腔室的热量足以使其分解并与半导体材料反应,不存在等离子体那样的高能离子轰击过程,对设备的损坏可以降低到最低限度。相比等离子裂解制氟工艺,三氟化氯清洗工艺简单而高效,且清洗效果更好。 |
危险品运输编号 | UN 1749 2.3 |
Hazard Class | 2.3 |