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三氟甲烷在电子行业未来发展空间大

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三氟甲烷是一种有机化合物,化学式为CHF3,常温常压下为无色气体,其性质稳定,可溶于水,丙酮、无水乙醚、甲醇等部分有机溶剂,不导电,不可燃烧,但在高温条件下可受热分解,分解产物为有毒氟化氢气体。

根据新思界产业研究中心发布的《2021-2025年三氟甲烷行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,三氟甲烷由于消耗臭氧潜能值(ODP)为零,可取代氯氟烃(CFC)例如CFC-13用作低温制冷剂、灭火剂。三氟甲烷也可用作超临界萃取溶剂,以及有机合成中间体,用来制取四氟乙烯等产品。在电子产业中,三氟甲烷可用作等离子体化学蚀刻剂,在二氧化硅膜刻蚀方面具有速度快、选择性优等特点。

我国三氟甲烷生产商主要包括专业气体公司和氟化工企业两大类,三氟甲烷制取的一个重要途径是氟化工行业副产物提纯,是以二氟一氯甲烷R-22(CHClF2)制备过程中的副产物为原料,通过精馏等工艺制得。三氟甲烷虽然不破坏臭氧层,但其全球变暖潜能值(GWP)高,是一种强温室气体。与国外企业相比,国内三氟甲烷生产商在高纯产品生产方面实力较弱,电子级三氟甲烷需求对外依赖度较大。在R-22生产过程中,副产物三氟甲烷产量较大,三氟甲烷具有较高利用价值,若直接销毁处理不仅浪费资源,也不利于企业提高营收能力,因此副产物回收再利用前景好。如何低成本、高效率的提纯得到电子级三氟甲烷是行业未来发展所需关注的重点。

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