一氟甲烷(又称hfc-41，分子式为ch3f)是一种在常温常压下无毒、可液化的气体。由于其具有较低的温室效应潜值和零臭氧损耗潜值，是一种低温热泵的理想工质之一；同时一氟甲烷也广泛应用于半导体工业，作为等离子蚀刻材料用于蚀刻硅化合物的薄膜。目前制备一氟甲烷的方法主要有以下几种：
一、气相加氢脱氯法
以一氟二氯甲烷或一氟一氯甲烷为原料，在催化剂的作用下与氢气发生加氢脱氯反应。
二、气相氟化法
cn100562510c公开了一种氟甲烷的制备方法，其以氯甲烷为原料和氟化氢在催化剂存在下进行反应，催化剂为三价氧化铬和in、zn、ni、co、mg和al中的至少一种组成，气相氟化反应生成hfc-41。
三、其他方法
采用甲醇为原料，在复合氟化催化剂的作用下与氟化氢反应，生成一氟甲烷。