1、四氟化硅在常温下为无色、有毒、有刺激性臭味的气体，溶于乙醇、醚、硝酸、氢氟酸，在潮湿的空气中可产生浓烟雾，生成硅氧化物和氟化氢。四氟化硅可与碱性物质产生剧烈反应，与大部分含有水汽的材料反应生成极易燃的氢气。高纯四氟化硅在电子气体和半导体行业中发挥着举足轻重的作用，因此对四氟化硅气体的杂质进行脱除和净化，对于加快四氟化硅气体的推广应用具有重要的意义。
2、国内外有关5N（99.999%）级高纯四氟化硅电子特气研究内容主要分为四氟化硅制备工艺技术和四氟化硅粗料提纯工艺技术两个方面。四氟化硅气体的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性，是我国亟待攻克的电子与半导体行业的“卡脖子”技术产品。
3、国内外对四氟化硅气体的制备与应用有很多制备四氟化硅的方法，但每种方法都存在着有优势与不足，目前国内市场上的高纯四氟化硅产品，存在总金属杂质含量高的缺点，无法满足半导体行业对电子特气的需要，高品质的四氟化硅产品主要依赖美国和日本进口，针对市场需求，开发高层次、高品质，以适应国内需求参与国际竞争。