准分子激光气体_特种气体_湖南远创气体有限公司

准分子激光气体

准分子激光预混气

工业技术的升级转型需要平衡日益增长的性能需求与加工速度及制造成本之间的矛盾。准分子激光的诞生，以其高光子能量所称著，在对突破材料限制需求越来越迫切的时代，准分子激光器再次站在了尖端工业激光解决方案的最前沿。作为当今最有效、最可靠的脉冲紫外激光技术的代表，准分子激光器有效地推进了诸如半导体、AMOLED平板显示、薄膜、硅底板加工、有机金属沉淀、高温超导、刻蚀、材料研究、汽车制造、生物医疗、光纤、钻石打标设备及可替代能源等多种成长型工业中的技术革新。准分子激光气体是用于准分子激光设备中的激光发生器的关键气体

具体的配比和包装物和准分子激光设备的品牌和型号相关：

品牌	机型	波长	准分子激光气体
ATL	ATL ARF-1	193 nm	F2,Ar,Xe,Ne
ATL	ATL KRF-1	248 nm	F2,Kr,Xe,Ne
TUI	CTFTS-ARFV 2.2	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.1	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.2	248 nm	F2,Kr,He,Xe,Ne
	CTMD-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	CTMD-XECLV 2.1	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-ARFV 2.1	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-KRFV 1.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-KRFV 2.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-XECLV 2.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XECLV 5.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XEFV 1.1	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
	CTMN-XEFV 1.2	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
GAM Laser	EX5 ArF	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	EX5 KrF	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	EX5 XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	EX10	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX50	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX100	193 nm	F2,Ar,He,Ne
Photomedex	XeCl	308 nm	HCl,Xe,Ne
Photoscribe	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
Photoscribe	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
PotomacPhotonics	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
PotomacPhotonics	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
Spectranetics	XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne