三氟化氮NF3
三氟化氮是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出，所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。
注意事项：
| 化学式 | NF3 | 危险货物编号 | 23016 | |
| 理化性质 | 外观与性状 | 无色刺激气体 | 饱和蒸汽压（kpa） | ＞101.35（20°） |
| 熔点（℃） | -208.5℃ | 相对密度(空气=1) | 2.46 | |
| 沸点（℃） | -129℃ | 临界温度（℃） | -39.3℃ | |
| 毒性及健康危害 | 侵入途径 | 吸入。 | ||
| 健康危害 | 吸入该物质会引起呼吸道不适，本产品低毒，但是它能强烈刺激眼睛和皮肤黏膜，腐蚀组织 | |||
| 急救方法 | 吸入时，迅速脱离现场至空气新鲜处，保持呼吸道通畅，不可进行口对口人工呼吸，就医；立刻脱掉污染衣服，用大量水冲洗，并给予医疗护理；眼睛接触时，用水彻底冲洗至少15分钟，就医 | |||
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产品规格 |
99.9% |
99.99% |
99.995% | |||||
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四氟化碳（CF4） |
≤500ppm
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≤40ppm
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≤20ppm |
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氮气（N2） |
≤50ppm
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≤5ppm
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≤5ppm
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氧+氩（O2+Ar） |
≤50ppm |
≤5ppm
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≤3ppm
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二氧化碳（CO2） |
≤10ppm
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≤5ppm
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≤1ppm
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水（H2O） |
≤1ppm
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≤1ppm
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≤1ppm
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酸份（以HF计） |
≤1ppm
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≤1ppm
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≤1ppm
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六氟化硫（SF6）
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≤25ppm
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≤2ppm
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≤1ppm
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氧化亚氮（N2O） |
≤10ppm
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≤5ppm
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≤1ppm
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| 一氧化碳（CO） |
≤10ppm |
≤5ppm |
≤0.5ppm |
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